|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БИМЕТАЛЛИЧЕСКОГО СЛИТКА |  |
Номер публикации патента: 2083700 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C22B009/18 B22D019/02 B22D007/02 | | Аналоги изобретения: | 1. Заявка Японии N 52-120921, кл. B 22 D 19/02, 1976. 2. Патент США N 2525133, кл. 164 - 52, 1945. |
| Имя заявителя: | Акционерное общество открытого типа Завод "Красный Октябрь" | | Изобретатели: | Архипов В.М.
Пузачев В.И.
Зуев С.А.
Курлыкин В.Н.
Шарапов А.А.
Родионова И.Г.
Ефимов О.П.
Гришин В.А.
Рыбкин А.Н. | | Патентообладатели: | Акционерное общество открытого типа Завод "Красный Октябрь" |
Реферат | |
Изобретение относится к области специальной электрометаллургии, конкретно к производству биметаллов с использованием электрошлаковой технологии. Способ получения биметаллического слитка, состоящего из основного и плакирующего слоев, включает размещение в кристаллизаторе с зазором с одной из его стенок металлической заготовки, являющейся одним из слоев биметаллического слитка, наведение на поддоне в зазоре между стенкой кристаллизатора и заготовкой шлаковой ванны и переплав в ней расходуемых электродов с формированием второго слоя биметаллического слитка. Перед наведением шлаковой ванны электроды устанавливают в зазоре относительно заготовки на расстоянии, составляющем 0,3. . .0,5 расстояния от нижнего торца электродов до поддона, нагрев шлака и плавление электродов ведут при мощности, составляющей 0,8... 0,9 рабочей расчетной мощности, до высоты слитка, равной 1,0...2,5 ширины зазора, после чего увеличивают вводимую мощность до рабочей расчетной, а расстояния от электродов до заготовки увеличивают до величины, составляющей 0,6. . . 1,1 расстояния от нижнего торца электродов до уровня металлической ванны. В кристаллизаторе помещают металлическую заготовку либо из металла основного слоя биметаллического слитка, либо их материала плакирующего слоя биметаллического слитка. Расстояние от электродов до заготовки увеличивают пропорционально текущей высоте наплавленного слоя. Использование данного способа позволит повысить выход годного и качество биметаллического слитка. 2 з.п. ф-лы.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента