На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО - ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ | |
Номер публикации патента: 2074903 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | C23C014/32 H01J037/08 | Аналоги изобретения: | 1. Авторское свидетельство СССР N 355253, кл. С 23 С 14/32, 1973. 2. Авторское свидетельство СССР N 901358, кл. С 23 С 14/32, 1982. |
Имя заявителя: | Дудкин Владимир Александрович[UA] | Изобретатели: | Дудкин Владимир Александрович[UA] Пуха Владимир Егорович[UA] Вус Александр Степанович[UA] | Патентообладатели: | Дудкин Владимир Александрович[UA] Пуха Владимир Егорович[UA] Вус Александр Степанович[U |
Реферат | |
Сущностью изобретения является устройство для ионно-плазменной обработки изделий, которое содержит два водоохлаждаемых электрода, один из которых выполнен цилиндрической формы и выведен одним концов через изолированный ввод из вакуумной камеры, гасящее устройство, расположенное вокруг цилиндрического электрода со стороны изолированного ввода, поджигающее устройство, расположенное у противоположного конца цилиндрического электрода, и источник питания вакуумной дуги. Устройство снабжено высоковольтным и низковольтным источниками питания постоянного тока, переключателем и системой напуска. Второй электрод выполнен в виде спирали, окружающей цилиндрический электрод и соосный с ним, и подключен концом, расположенным со стороны гасящего устройства, к положительному полюсу источника питания вакуумной дуги и к отрицательному полюсу высоковольтного источника питания, а обоими концами к - низковольтному источнику питания. Цилиндрический электрод через переключатель подключен к отрицательному полюсу источника питания вакуумной дуги и к положительному полюсу высоковольтного источника питания. Отрицательный полюс высоковольтного источника питания через резистор заземлен. 1 ил.
|