|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ИСТОЧНИК МОЛЕКУЛЯРНОГО ПОТОКА |  |
Номер публикации патента: 2064980 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C30B023/06 C30B023/08 | | Аналоги изобретения: | 1. Bosacchi A. at all. MBE evaporatiok source fitted wilh shutter and water-cooled jacket. - J.Vac. Technol., 21 (3), Sept./Oct., 1982, p.897 - 898. 2. Harris K.A. and Cook J.W. Jr. A mercury coure for molecular feam epitaxy. - J. Vas. Sci. Technol. A 5(2), Apr./Mar., 1987, p. 279 - 280. 3. Wagner B.K. at all. A new fast - response Hg vapor source for molekular beam epitaxy growth. - J. Vas. Sci. Technol. A 7(2), 1989, p. 295 - 299. 4. Miller D.L., Bose S.S. Design and operation of valved solid-source As<SB>2</SB> for molecular beam epitaxy. J.Vac. Sci. Technol., B.8(2), 1980, p. 311 - 315. |
| Имя заявителя: | Институт физики полупроводников СО РАН | | Изобретатели: | Смирнов С.А.
Остаповский Л.М.
Чикичев С.И. | | Патентообладатели: | Институт физики полупроводников СО РАН |
Реферат | |
Изобретение относится к оборудованию для получения материалов и многослойных структур полупроводниковых соединений. Источник молекулярного потока рабочего вещества содержит испаритель вещества с нагревателем, формирователь потока с нагревателем, управляющий элемент и привод управляющего элемента. Управляющий элемент выполнен в виде заслонки и расположен внутри канала, соединяющего испаритель и формирователь потока, поверхность перекрытия канала заслонкой выполнена под острым углом к оси канала, а конфигурация внешней поверхности заслонки согласована с формой внутренней поверхности канала в месте расположения заслонки. Кроме того, кинематические пары, обеспечивающие перемещение заслонки, и связь с приводом, выполнены гибкими связями. Использование изобретения позволяет регулировать интенсивность и перекрывать молекулярный поток вне зависимости от конфигурации и используемого формирователя потока при различных расходах и режимах течения молекул паров рабочего вещества без переналадки источника и искажения диаграммы направленности исходящего из формирователя потока в процессе регулирования. Расширяется диапазон температурных режимов работы источника и используемых для испарения веществ, упрощается конструкция при одновременном исключении конденсации рабочего вещества на регулирующем элементе и других элементах конструкции контактирующих с потоком. 1 с.п. ф-лы, 5 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента