|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ПОДЛОЖКЕ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2046450 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/30 G03C001/74 | | Аналоги изобретения: | Заявка Японии N 60-2947, кл. G 03C 1/74, 1981. |
| Имя заявителя: | Научно-исследовательский институт молекулярной электроники | | Изобретатели: | Лискин Л.А. | | Патентообладатели: | Научно-исследовательский институт молекулярной электроники |
Реферат | |
Использование: изобретение относится к технологии производства ИС, в частности к способу и устройству для формирования тонких пленок на поверхности полупроводниковых подложек. Сущность изобретения заключается в том, что в способе формирования тонких пленок на полупроводниковой подложке, включающем закрепление подложки на вращающемся столике, снабженном вакуумным захватом, поворот подложки на 180° вокруг горизонтальной оси и опускание в резервуар с наносимой жидкостью, вращение подложки, возвращен
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента