|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР БАРРЕЛЬНОГО ТИПА |  |
Номер публикации патента: 2024990 |  |
| Редакция МПК: | 5 | | Основные коды МПК: | H01L021/302 | | Аналоги изобретения: | 1. Патент США N 4303467, кл. C 23F 1/02, 1980. |
| Имя заявителя: | Научно-производственная фирма "Плазматек" | | Изобретатели: | Киреев В.Ю.
Ковалевский В.Л.
Рябый В.А.
Савинов В.П.
Спорыхин А.А.
Сухоруков С.С.
Шейко Л.Н.
Якунин В.Г.
Сологуб В.А.
Шелыхманов Е.Ф.
Ястребов В.Г. | | Патентообладатели: | Научно-производственная фирма "Плазматек" |
Реферат | |
Использование: область производства микроэлектронных приборов. Сущность изобретения: плазмохимический реактор баррельного типа, включающий вакуумную разрядную камеру, образованную цилиндрическим диэлектрическим корпусом и двумя заземленными металлическими крышками с диэлектрическим покрытием, установленными на его торцах и выполняющими роль электродов. Через неоткрываемую крышку в камеру введены коллекторы для подачи и откачки рабочего газа, выполненные в виде продольно перфорированных диэлектрических трубок, проходящих вдоль стенок корпуса по всей его длине, а через открываемую крышку в камеру загружается диэлектрическая лодочка с обрабатываемыми пластинами, ориентированными перпендикулярно оси реактора, разбитыми на две группы незаполняемым промежутком, расположенным в области реактора, охватываемого кольцевым ВЧ электродом. В начале и в конце каждой группы пластин установлены металлические пластины-имитаторы с диэлектрическим покрытием. Кроме того, перфорация коллекторов обращена к стенке корпуса, откачной коллектор размещен в нижней части реактора, а при обработке кремниевых пластин в качестве диэлектрических материалов корпуса, лодочки, коллекторов, покрытий торцевых крышек и пластин-имитаторов используется кварц, карбид кремния и окись алюминия. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента