|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ПОЗИТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ И СПОСОБ ЕГО ОБРАБОТКИ |  |
Номер публикации патента: 2012918 |  |
| Имя заявителя: | Фролов Владимир Михайлович,Селиванов Геннадий Константинович,Фирсов Рудольф Григорьевич | | Изобретатели: | Фролов Владимир Михайлович
Селиванов Геннадий Константинович
Фирсов Рудольф Григорьевич | | Патентообладатели: | Фролов Владимир Михайлович
Селиванов Геннадий Константинович
Фирсов Рудольф Григорьевич |
Реферат | |
Область использования: фотолитография для производства интегральных микросхем. Сущность изобретения: для упрощения технологии формирования фоторезистивного рельефа с прямоугольной формой профиля используют специальный фоторезист, представляющий собой 15 - 25% -ный раствор смеси известных сухих компонентов в известном соотношении между ними в водорастворимом органическом растворителе с относительной летучестью по диэтиловому эфиру в диапазоне 3 - 20, а термообработку пленки указанного фоторезиста
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента