На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПАРЫ МЕТРОЛОГИЧЕСКИХ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ ДИФРАКЦИОННЫХ РЕШЕТОК ТУРУХАНО

Номер публикации патента: 1814406

Вид документа:  A1  Страна публикации:  SU  Рег. номер заявки:  4371038		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к оптическому приборостроению, более конкретно к способам создания голографических дифракционных решеток, предназначенных для использования в метрологии. В соответствии со способом изготавливают измерительную и индикаторную решетки. Для этого одну из боковых граней подложки 1 измерительной решетки обрабатывают с оптической точностью и наносят на нее светочувствительный слой 2. Затем формируют в этом слое систему периодических штрихов 3, сгруппированных в расположенных последовательно вдоль направления, перпендикулярного штрихам, участках, у которых границы двух соседних фазированных участков перекрывают друг друга, а фазы накладывающихся штрихов совпадают. Далее на свободной от штрихов 3 измерительной решетки части светочувствительного слоя 2 в пределах ширины зоны этих штрихов формируют вторую систему штрихов 4, сгруппированных в отдельные участки 5-8, сдвинутые по фазе относительно друг друга. При этом частоту штрихов в этих участках и угол их наклона относительно штрихов 3 измерительной решетки определяют из соответствующих математических выражений в зависимости от частоты штрихов 3. Затем, по одну сторону от систем штрихов 3 и 4 на прямой, перпендикулярной штрихам 3 и не пересекающей их, формируют в светочувствительном слое 2 ноль-метки, одна ноль-метка 9 соответствует системе штрихов 4, а одна или несколько периодически расположенных ноль-меток 10 - системе штрихов 3. Индикаторную решетку изготавливают путем снятия копии с матрицы, включающей систему штрихов 4 и соответствующую ей ноль-метку 9, базируясь по оптически обработанной боковой поверхности подложки 1. С целью тиражирования измерительных решеток аналогично снимают копии с исходной измерительной решетки (3) и соответствующих ей ноль-меток 10. Благодаря формированию систем штрихов 3, 4 и ноль-меток 9, 10 за один цикл в интерферометре и базировке по оптически обработанной боковой поверхности подложки 1 при изготовлении копий точность изготовления пары решеток существенно возрастает. 1 з.п. ф-лы, 8 ил.

Вернуться к списку