Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ГЕНЕРАТОРА (ВАРИАНТЫ)

Номер публикации патента: 2371812

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2008117443/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L031/18    
Аналоги изобретения: RU 2265915 C1, 10.12.2005. RU 2127471 C1, 10.03.1999. RU 2127009 C1, 27.02.1999. SU 434872 A, 24.12.1976. US 2006118900 A1, 06.04.1976. 

Имя заявителя: Российская Академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) (RU) 
Изобретатели: Арбузов Юрий Дмитриевич (RU)
Евдокимов Владимир Михайлович (RU)
Стребков Дмитрий Семенович (RU)
Шеповалова Ольга Вячеславовна (RU) 
Патентообладатели: Российская Академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) (RU) 

Реферат


Способ изготовления полупроводникового фотоэлектрического генератора включает формирование многослойной структуры методом эпитаксиального выращивания слоев на полупроводниковой подложке, формирование металлизации, нанесение просветляющего покрытия, присоединение токоотводов. Между p+-n(n+) слоям выращивают тонкие сильнолегированные слои p+ типа толщиной менее 1 мкм с концентрацией активной примеси более 1018 см-3. Формируют шунтирующие туннельные p+-n(n+) переходы и обеспечивают последовательную коммутацию. Выполняют металлизацию на верхнем эпитаксиальном слое и формируют контакт в виде сплошного слоя металла. Заготовки разрезают на матрицы, а просветляющее покрытие наносят на торцевые поверхности, на которые поступает рабочее освещение. В другом варианте способа толщина слоев p+-n(n+) типа менее 12 мкм, при этом просветляющее покрытие наносят на верхний эпитаксиальный слой, а металлизацией на указанном эпитаксиальном слое формируют контакт в виде контактной сетки, при этом рабочее освещение поступает на указанный верхний эпитаксиальный слой. Изобретение обеспечивает повышение воспроизводимости высоких выходных характеристик при массовом производстве. 2 н.п. ф-лы, 2 табл., 1 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"