|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙ С АНТИОТРАЖАЮЩИМ ПОКРЫТИЕМ |  |
Номер публикации патента: 1779208 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L031/18 | | Аналоги изобретения: | Патент США N 4152824, кл. H 01 L 21/223, 1979. Патент США N 4029518, кл. H 01 L 31/06, 1977. |
| Имя заявителя: | Всесоюзный научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства | | Изобретатели: | Безмен В.П.
Заддэ В.В.
Старшинов И. |
Реферат | |
Использование: относится к области изготовления оптоэлектронных приборов, в частности кремниевых фотопреобразователей с p-n-переходом. Сущность: способ включает формирование неоднородно залегающего перехода в полупроводниковой пластине методом двойной диффузии. На первом этапе осуществляют диффузию по всей пластине, а на втором - локальную диффузию в подконтактные области через маску из пленки пятиокиси ниобия или тантала толщиной 0,04 - 0,24 мкм. Локальную диффузию осуществляют при температуре не выше 1100oC. Нанесенную пленку из пятиокиси ниобия или тантала используют в качестве антиотражающего покрытия фотопреобразователя. 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента