Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО ПРИБОРА С Т - ОБРАЗНЫМ УПРАВЛЯЮЩИМ ЭЛЕКТРОДОМ

Номер публикации патента: 2421848

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010112965/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/338   B82B003/00    
Аналоги изобретения: US 5861327 А, 19.01.1999. RU 2192069 С2, 27.10.2002. RU 2031481 C1, 20.03.1995. US 6077733 A, 20.06.2000. US 2009023288 A1, 22.01.2009. 

Имя заявителя: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет) (МИЭТ) (RU) 
Изобретатели: Егоркин Владимир Ильич (RU)
Шмелев Сергей Сергеевич (RU)
Трегубова Елена Владимировна (RU)
Зайцев Алексей Александрович (RU)
Никифоров Денис Николаевич (RU) 
Патентообладатели: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет) (МИЭТ) (RU) 

Реферат


Изобретение относится к технологии микро- и наноэлектроники. Сущность изобретения: способ изготовления полупроводникового прибора с Т-образным управляющим электродом включает выделение на подложке арсенида галлия с нанесенным вспомогательным слоем диэлектрика активной области прибора, в пределах которой формируют устройство. На данную подложку наносят слой резиста, подходящего для наноимпринт литографии, и проводят горячее тиснение штампа. Штамп создают на подложке с ориентацией [100] «взрывной фотолитографией», для проведения которой используют комплект фотошаблонов, зеркальный к рабочему. После «взрыва» фоторезиста на подложке остаются полоски металла, которые ориентированы под углом 45±2 градусов по отношению к базовому срезу. Следующей операцией является травление подложки, после которого под полосками металла образуются прямоугольные выступы, образующие рельеф штампа. После копирования данного рельефа в резист проводят плазмохимическое травление, в ходе которого слой диэлектрика дотравливается до подложки в местах, соответствующих выступам рельефа штампа. Далее резист удаляют и наносят слой фоторезиста. Фотолитографией с использованием рабочего комплекта фотошаблонов в нем формируют Т-образные управляющие электроды. Изобретение обеспечивает уменьшение длины каналов транзисторов, упрощение и удешевление изготовления приборов и интегральных схем на их основе.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"