Курносов А.И. Материалы для полупроводниковых приборов и интегральных схем. - М.: Высшая школа, 1980, с.272-273. Панфилов Ю.В. и др. Оборудование производства интегральных микросхем и промышленные работы. - М.: Радио и связь, 1988, с.48-50. SU 1780274 A1, 30.04.1995. SU 852815 A, 15.09.1981.
Имя заявителя:
Снегирева Наталья Владимировна (RU), Двойникова Елена Борисовна (RU), Лисина Эллеонора Николаевна (RU), Карасева Алла Александровна (RU), Гринев Юрий Иванович (RU), Морозова Лидия Федоровна (RU), Гордеева Наталья Тимофеевна (RU)
Изобретатели:
Снегирева Наталья Владимировна (RU) Двойникова Елена Борисовна (RU) Лисина Эллеонора Николаевна (RU) Карасева Алла Александровна (RU) Гринев Юрий Иванович (RU) Морозова Лидия Федоровна (RU) Гордеева Наталья Тимофеевна (RU)
Патентообладатели:
Снегирева Наталья Владимировна (RU) Двойникова Елена Борисовна (RU) Лисина Эллеонора Николаевна (RU) Карасева Алла Александровна (RU) Гринев Юрий Иванович (RU) Морозова Лидия Федоровна (RU) Гордеева Наталья Тимофеевна (RU)
Реферат
Изобретение относится к химической очистке поверхности кварцевой оснастки, используемой в полупроводниковой технологии для изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем. В способе обработки кварцевой оснастки полупроводникового производства, включающем обработку кварцевой оснастки после высокотемпературных операций полупроводникового производства в очищающем растворе, для обработки кварцевой оснастки используют очищающий раствор, состоящий из фтористоводородной кислоты, фторида аммония, сульфомалеинового ангидрида и деионизованной воды при следующем весовом соотношении компонентов,