| 
			
					
			 На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента 
			
				Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину» 
			
			 
		   | СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ПОЛИМЕРИЗАЦИИ |      |  
 
 Номер публикации патента: 2046678 |   |  
  
	
	 
	
| Редакция МПК:  | 7  |  | Основные коды МПК:  | B05D001/00   H01L021/285   C08J005/18   B29C035/08     |  | Аналоги изобретения:  | 1. Gangal S.A, Hori M., Horita S., Haffoori S. Plasma - polimeriged ebcxron beam resist prerared from mefkyl metacrylaxe using garious carrier gases. - Gnin solid films, 1987, vol 149, N 03, p. p. 341 - 350.  |  
	 
	 
	
| Имя заявителя:  | Институт микроэлектроники РАН  |  | Изобретатели:  | Савинский Н.Г. Симаков Н.Н. Федоров В.А.  |  | Патентообладатели:  | Институт микроэлектроники РАН  |  
	 
	 
Реферат |   |  
 
 Использование: при нанесении полимерных покрытий для повышения скорости осаждения полимера в зоне послесвечения плазмы, например, в микроэлектронике для осаждения резистивных, пассивирующих диэлектрических покрытий, в других областях техники. Сущность изобретения: по крайней мере один из компонентов полимеробразующего газа дополнительно вводят в зону свечения плазмы для его активации.  
		 |