Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


КРИСТАЛЛ УЛЬТРАБЫСТРОГО ВЫСОКОВОЛЬТНОГО СИЛЬНОТОЧНОГО АРСЕНИД - ГАЛЛИЕВОГО ДИОДА

Номер публикации патента: 2472249

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009149284/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L029/868    
Аналоги изобретения: SU 251096 А, 06.05.1977. RU 1581149 С, 15.09.1994. US 5159296 А, 27.10.1992. ЕР 0762500 А1, 12.03.1997. JP 2004128263 А, 22.04.2004. KR 20030085379 А, 05.11.2003. CN 101382964 А, 11.09.2009. 

Имя заявителя: Общество с ограниченной ответственностью "Интелсоб" (ООО "Интелсоб") (RU) 
Изобретатели: Войтович Виктор Евгеньевич (EE)
Гордеев Александр Иванович (RU)
Думаневич Анатолий Николаевич (RU) 
Патентообладатели: Общество с ограниченной ответственностью "Интелсоб" (ООО "Интелсоб") (RU) 

Реферат


Изобретение относится к микроэлектронике. Изобретение обеспечивает улучшение динамических свойств, расширение диапазона рабочих напряжений, увеличение плотности токов, повышение термодинамической устойчивости высоковольтных ультрабыстрых арсенид-галлиевых диодов. Сущность изобретения: в конструкции кристалла арсенид-галлиевого диода в эпитаксиальных анодных и катодных областях структуры профиль концентрации легирующей примеси резко выраженный ступенчатый с резким - плавным - резким убыванием и возрастанием разностной концентрации донорной и акцепторной примесей. Кристалл ультрабыстрого мощного высоковольтного арсенид-галлиевого диода содержит высоколегированную монокристаллическую подложку первого типа проводимости с концентрацией легирующей примеси не менее чем 1019 см-3 ; эпитаксиальный слой первого типа проводимости с областями резкого, плавного, резкого уменьшения разностной концентрации донорной и акцепторной примесей от уровня концентрации в подложке 10 19 см-3 до менее чем 1011 см -3; эпитаксиальный слой с разностной концентрацией донорной и акцепторной примесей 1011 см-3; эпитаксиальный слой второго типа проводимости с областями с резким, плавным, резким увеличением разностной концентрации донорной и акцепторной примесей от 1011 см-3 до 1018 см-3 и более. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"