Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ВЫСОКОВОЛЬТНЫЙ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЙ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИЙ ТИРИСТОР С ПОЛЕВЫМ УПРАВЛЕНИЕМ

Номер публикации патента: 2472248

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010107584/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L029/745    
Аналоги изобретения: RU 91222 U1, 27.01.2010. SU 1001830 A1, 20.06.2000. US 6479844 B2, 12.11.2002. DE 19627838 A1, 17.04.1997. JP 2184078 A, 18.07.1990. 

Имя заявителя: Общество с ограниченной ответственностью "Интелсоб" (ООО "Интелсоб") (RU) 
Изобретатели: Войтович Виктор Евгеньевич (EE)
Гордеев Александр Иванович (RU)
Думаневич Анатолий Николаевич (RU) 
Патентообладатели: Общество с ограниченной ответственностью "Интелсоб" (ООО "Интелсоб") (RU) 

Реферат


Изобретение относится к конструированию высоковольтных высокотемпературных сильноточных тиристоров. Сущность изобретения: в высоковольтном высокотемпературном быстродействующем тиристоре с полевым управлением, содержащем анодную область из высоколегированной подложки p+-типа проводимости, базовую область из последовательных эпитаксиальных слоев n-типа и высокоомного n --типа проводимости, затворную область, выполненную из локальных взаимосвязанных областей p+-типа проводимости в приповерхностном объеме, в том числе в углублениях базовой области, катодную область, выполненную из локальных взаимосвязанных n+-типа проводимости неглубоких областей, расположенных между затворными p+-областями, структура тиристора выполнена на основе арсенида галлия, при этом между анодной и базовой областями структуры выполнены эпитаксиальные слои р +-р-р- типа с резким, плавным, резким перепадом разностной концентрации акцепторной и донорной примесей от не менее чем 1019 см-3 до 1011 см-3 и менее, и эпитаксиальная i-область с разностной концентрацией акцепторной и донорной примесей не более чем 10 11 см-3. Изобретение позволяет в несколько раз увеличить быстродействие тиристора с полевым управлением, повысить рабочую температуру кристалла в 1,5-2 раза, радиационную стойкость. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"