Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ДЕТЕКТОР ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ НА ОСНОВЕ АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ

Номер публикации патента: 2097874

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 93051291 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L031/115    
Аналоги изобретения: Абрамов А.И. Основы экспериментальных методов ядерной физики. - М.: Атомиздат, 1977, с. 206 - 207. S.P. Beamont et al. Gallium Arsenide Microstrip Detectors for Charged Particles. Preprint CERN - PPE/92-51, 1992, p.4. 

Имя заявителя: Институт ядерных исследований РАН 
Изобретатели: Болотов В.Н.
Постоев В.Е.
Филатов О.Н. 
Патентообладатели: Государственный научный центр РФ Институт ядерных исследований РАН 

Реферат


Использование: полупроводниковое и ядерное приборостроение. Сущность изобретения в полупроводниковом детекторе заряженных частиц на основе арсенида галлия, содержащем подложку из арсенида галлия, на противоположных сторонах которой выполнены слои из материалов n+ и p+ типов проводимости и металлические электроды, ориентация кристалла арсенида галлия выбрана (100), поверх слоя из материала n+ типа проводимости сформирован дополнительный слой из материала с относительным изменением параметров решетки da/a большим, чем у подложки, а слой из материала p+ проводимости выполнен из материала с относительным изменением параметров решетки меньшим, чем у подложки, причем толщины и состав дополнительного слоя и слоя из материала p+ типа проводимости выбраны таким образом, чтобы механические напряжения в подложке не превышали критического значения, выше которого образуются дислокации несоответствия. В качестве материала дополнительного слоя поверх слоя из материала n+ типа проводимости может быть использован материал с относительным изменением параметров решетки dа/а = +(1-5)·10-4. В качестве материала дополнительного слоя поверх слоя из материала n+ типа проводимости использован твердый раствор InxGa1-xAs с 0+ типа проводимости использован углерод в качестве акцепторной примеси с концентрацией NA = 1019см-3. В слое из материала n+ типа проводимости в качестве донорной смеси использован германий с концентрацией Nd = 1018см-3. 3 з.п. ф-лы, 1 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"