Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА

Номер публикации патента: 2427016

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010107569/05 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G03F007/022   G03C001/695    
Аналоги изобретения: SU 1825426 A1, 30.06.1993. US 2006263722 A1, 23.11.2006. US 5296330 A, 22.03.1994. RU 2199773 C2, 27.02.2003. SU 1825425 A3, 30.06.1993. SU 1217128 A1, 07.05.1993. SU 1364051 A1, 20.07.1996. 

Имя заявителя: Закрытое акционерное общество "Институт прикладной нанотехнологии" (RU) 
Изобретатели: Афанасьев Михаил Мефодъевич (RU)
Эрлих Роальд Давидович (RU)
Беклемышев Вячеслав Иванович (RU)
Махонин Игорь Иванович (RU)
Филиппов Константин Витальевич (RU) 
Патентообладатели: Закрытое акционерное общество "Институт прикладной нанотехнологии" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к фотолитографическим процессам по формированию на функциональной поверхности подложки с помощью фоторезистов рельефного покрытия заданной конфигурации для получения изображения рисунков при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике. Предлагается способ получения позитивного фоторезиста взаимодействием пленкообразующего в виде фенолоформальдегидных смол и светочувствительного компонента - продукта взаимодействия 1,2-нафтохинондиазид-(2)-4-сульфохлорида с 3-(2-этилгексилокси)пропиламином. Процесс ведут в смеси органических растворителей на основе сложных эфиров карбоновых кислот и ксилола в присутствии неионогенного поверхностно-активного вещества - фторалифатического эфира плотностью 1,1-1,17 г/см3 и альфа-метилстирола и/или п-аминофенола при массовом соотношении их в смеси 1:1. Полученный позитивный фоторезист обладает повышенной светочувствительностью и разрешающей способностью для экспонирующего излучения max=365 нм. 4 з.п. ф-лы.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"