Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ДОПРОЯВЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА, НАНЕСЕННОГО НА ПЬЕЗОЭЛЕКТРИЧЕСКУЮ ПОДЛОЖКУ

Номер публикации патента: 2401321

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2008140251/02 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: C23C014/58   G03F007/26    
Аналоги изобретения: US 4473437 А, 25.09.1984. SU 1667529 А, 30.05.1994. SU 1099776 A1, 23.10.1990. RU 2140623 A, 27.10.1999. GB 1419034 A, 24.12.1975. 

Имя заявителя: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт "Элпа" с опытным производством" (ОАО "НИИ "Элпа") (RU) 
Изобретатели: Нерсесов Сергей Суренович (RU)
Голубский Александр Алексеевич (RU)
Трусов Анатолий Аркадьевич (RU) 
Патентообладатели: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт "Элпа" с опытным производством" (ОАО "НИИ "Элпа") (RU) 

Реферат


Изобретение относится к способам допроявления фоторезистов и может быть использовано в области микроэлектроники интегральных пьезоэлектрических устройств на поверхностных акустических волнах (фильтры, линии задержки, резонаторы). Согласно способу подложку с фоторезистом размещают в плазмохимическом реакторе внутри перфорированного металлического цилиндра и проводят обработку в плазме смеси кислорода и инертного газа при содержании кислорода 5-15 об.% и инертного газа - 85-95 об.%, при давлении в реакторе 80-150 Па, при плотности ВЧ-мощности 0,03-0,07 Вт/см3 и времени обработки 20-210 сек. При этом в качестве инертного газа используют гелий или неон, или аргон. Технический результат - увеличение прецизионности и чистоты допроявления фоторезиста на пьезоэлектрических подложках. 1 табл.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"