Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭКСПОНИРОВАННОЙ ПОДЛОЖКИ

Номер публикации патента: 2344455

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2005129549/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G03F007/16   G03F007/20    
Аналоги изобретения: ЕР 1225477 А, 24.07.2002. US 6337163 B1, 08.01.2002. US 4255514 A, 10.03.1981. US 4255514 A, 10.03.1981. JP 2253610 A, 12.10.1990. JP 6163396 A, 10.06.1994. GB 1388167 A, 26.03.1975. JP 2001066407 A, 16.03.2001. US 5538753 A, 23.07.1996. US 3954469 А, 04.05.1976. WO 01/20402 A1, 22.03.2001. 

Имя заявителя: ГИЗЕКЕ УНД ДЕВРИЕНТ ГМБХ (DE) 
Изобретатели: Виттих КАУЛЕ (DE) 
Патентообладатели: ГИЗЕКЕ УНД ДЕВРИЕНТ ГМБХ (DE) 

Реферат


Способ изготовления резистной матрицы, которая имеет по меньшей мере два участка с различными изображениями на них и при изготовлении которой используют по меньшей мере два слоя фоторезистов, согласованных с типом создаваемых изображений, причем в слое первого и/или второго фоторезиста экспонированием формируют или записывают дифракционные структуры.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"