На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СУХОГО ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА | |
Номер публикации патента: 2047208 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | G03F007/004 | Аналоги изобретения: | Выложенная заявка ФРГ N 2758575, кл. G 03C 5/50, опублик. 1979. |
Имя заявителя: | Акционерное общество открытого типа "Научно-исследовательский фототехнический институт" | Изобретатели: | Маркина Т.А. Гальберштам М.А. Аннапольский В.Д. Маркин В.С. Паутов В.П. | Патентообладатели: | Акционерное общество открытого типа "Научно-исследовательский фототехнический институт" |
Реферат | |
Использование: для изготовления сухих пленочных фоторезисторов (СПФ). Сущность изобретения: способ изготовления СПФ водно-щелочного проявления поливом на ПЭТФ основу раствора, включающего мас. агент набухания-трихлоруксусную кислоту 7 9, бустиран 2 3, растворитель 96%-ный этан остальное, высушиванием политого слоя и сматыванием политого материала в рулон.
|