На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ АБЕРРАЦИЙ ОПТИЧЕСКИХ СИСТЕМ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Номер публикации патента: 2077809

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  94017860		Получить полное описание патента

Реферат

1. Способ измерения аберраций оптических систем, заключающийся в тем, что путем диафрагмирования выделяют из пучков лучей, проходящих через контролируемую оптическую систему, узкие пучки, регистрируют изображение, сформированное узкими пучками лучей, измеряют смещения элементов этого изображения и преобразуют смещения элементов изображения в характеристики аберраций, отличающийся тем, что на контролируемую оптическую систему направляют излучение от протяженного неоднородного объекта, регистрируют также сформированное недиафрагмированными пучками лучей изображение, диафрагмирование пучков лучей производят с помощью экрана с отверстием, устанавливаемого в плоскость, в которой диаметр сечения каждого из пучков лучей, формирующих изображения точек объекта, не превышает ширины зоны изопланатизма, а смещения элементов изображения, сформированного узкими пучками лучей, оценивают относительно этих же элементов в изображении, сформированном недиафрагмированными пучками лучей.

2. Устройство для измерений аберраций оптических систем, содержащее диафрагмирующий экран с отверстиями, регистратор изображения, расположенный за экраном в плоскости изображения контролируемой оптической системы или вблизи нее, и систему обработки регистрируемых изображений, отличающееся тем, что оно снабжено расположенными перед экраном светоделителем, формирующим недиафрагмированное изображение, и регистратором этого изображения, диаметр d отверстий экрана и расстояние S от экрана до плоскости изображения контролируемой оптической системы удовлетворяет условиям


где λ - длина волны излучения;
F - относительное отверстие контролируемой оптической системы;
l - ширина зоны изопланатизма в изображении контролируемой оптической системы;
D - диаметр выходного зрачка контролируемой оптической системы,
а радиус r непрозрачной зоны экрана вокруг каждого отверстия удовлетворяет условию
r ≥ F·S.

Вернуться к списку