На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

СПОСОБ ИМПУЛЬСНО - ПЕРИОДИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНЫХ ПОКРЫТИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Номер публикации патента: 2141004

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  96124689		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технике, предназначенной для нанесения покрытий при их одновременном облучении ускоренными ионами и используемой для модификации поверхностей материалов и изделий в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве и других областях. В способе импульсно-периодического нанесения вакуумных покрытий, включающем в каждом цикле поочередное осаждение на подложку потока плазмы и облучение подложки пучками ускоренных ионов, осаждение на подложку потока плазмы и облучение подложки пучками ускоренных ионов производят с временным сдвигом между импульсами потока плазмы и ионного пучка, который устанавливают больше времени рекомбинации плазмы в объеме камеры, а период следования импульсов, осуществление роста покрытий и эффективность перемешивания выбирают из определенных условий, а также тем, что устройство для осуществления способа, включающее вакуумную камеру, внутри которой расположены держатель с подложкой, импульсно-дуговой испаритель, импульсно-дуговой имплантор ускоренных ионов, включающий коаксиально расположенные катод, поджигающий электрод и анод, закрытый эмиссионной сеткой, источник вторичного электропитания, генератор импульсно-дугового разряда и источник ускоряющего напряжения, дополнительно содержит источник отрицательного напряжения и генератор управляющих парных импульсов, а имплантор содержит дополнительно ускоряющую и защитную заземленные сетки и запирающую сетку, размещенную между упомянутыми заземленными сетками и подключенную к источнику отрицательного напряжения, причем генератор управляющих парных импульсов подключен к источнику вторичного электропитания и к генератору импульсно-дугового разряда. Кроме того, устройство может содержать не менее трех испарителей, расположенных с возможностью генерации потока плазмы коаксиально ионному пучку и с возможностью поворота осей плазменных потоков относительно оси ионного пучка, а источник вторичного электропитания содержит зарядный блок, генератор поджигающих импульсов, группу накопительных конденсаторов и группу резисторов, причем сопротивления резисторов и емкости конденсаторов выбирают из определенных соотношений. Изобретение позволяет увеличить производительность процесса нанесения покрытий, радиационную безопасность, повысить надежность работы устройства и расширить его функциональные возможности. 2 с. и 3 з.п. ф-лы, 6 ил.

Вернуться к списку