На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ | |
Номер публикации патента: 2135634 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | C23C014/35 H01J025/50 | Аналоги изобретения: | US 5106470 A, 21.04. US 4971674 A, 20.11.90. EP 0365249 A2, 25.04.90. EP 0645798 А1, 29.03.95. WO 92/07970 А1, 14.05.92. WO 89/10428 А1, 02.11.89. RU 94022474 А1, 10.04.96. |
Имя заявителя: | Санкт-Петербургский государственный технический университет | Изобретатели: | Васильев В.Г. | Патентообладатели: | Санкт-Петербургский государственный технический университет |
Реферат | |
Изобретение относится к области нанесения покрытий методом магнетронного распыления. Способ включает создание подвижного магнитного поля над поверхностью мишени электромагнитным способом, при этом над поверхностью мишени создают вращающееся магнитное поле путем подачи на электромагнитные катушки периодических напряжений переменного тока, сдвинутых по фазе друг относительно друга соответственно пространственному взаиморасположению катушек. Устройство содержит плоскую мишень и магнитную систему, состоящую из плоского магнитопровода, расположенного параллельно поверхности мишени, отдельных магнитопроводов, направленных в сторону мишени и закрепленных на плоском магнитопроводе, и электромагнитных катушек, намотанных вокруг каждого отдельного магнитопровода, причем система содержит не менее трех отдельных магнитопроводов, расположенных на равном расстоянии от центра мишени и друг от друга. Изобретение направлено на повышение равномерности распыления плоской мишени. 2 с.п.ф-лы, 2 ил.
|