Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ И УСТРОЙСТВО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Номер публикации патента: 2135634

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 98111413 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: C23C014/35   H01J025/50    
Аналоги изобретения: US 5106470 A, 21.04. US 4971674 A, 20.11.90. EP 0365249 A2, 25.04.90. EP 0645798 А1, 29.03.95. WO 92/07970 А1, 14.05.92. WO 89/10428 А1, 02.11.89. RU 94022474 А1, 10.04.96. 

Имя заявителя: Санкт-Петербургский государственный технический университет 
Изобретатели: Васильев В.Г. 
Патентообладатели: Санкт-Петербургский государственный технический университет 

Реферат


Изобретение относится к области нанесения покрытий методом магнетронного распыления. Способ включает создание подвижного магнитного поля над поверхностью мишени электромагнитным способом, при этом над поверхностью мишени создают вращающееся магнитное поле путем подачи на электромагнитные катушки периодических напряжений переменного тока, сдвинутых по фазе друг относительно друга соответственно пространственному взаиморасположению катушек. Устройство содержит плоскую мишень и магнитную систему, состоящую из плоского магнитопровода, расположенного параллельно поверхности мишени, отдельных магнитопроводов, направленных в сторону мишени и закрепленных на плоском магнитопроводе, и электромагнитных катушек, намотанных вокруг каждого отдельного магнитопровода, причем система содержит не менее трех отдельных магнитопроводов, расположенных на равном расстоянии от центра мишени и друг от друга. Изобретение направлено на повышение равномерности распыления плоской мишени. 2 с.п.ф-лы, 2 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"