Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОСИСТЕМЫ КОНТРОЛЯ ТРЕХ КОМПОНЕНТ ВЕКТОРА МАГНИТНОЙ ИНДУКЦИИ

Номер публикации патента: 2470410

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010153462/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/77    
Аналоги изобретения: RU 2320051 C1, 20.03.2008. RU 2007134110 A, 20.03.2009. JP 2004006752 A, 08.01.2004. JP 2004012156 A, 15.01.2004. US 7564237 B2, 21.07.2009. KR 20090076099 A, 13.07.2009. 

Имя заявителя: Федеральное государственное учреждение "Научно-производственный комплекс "Технологический центр" Московского государственного института электронной техники" (RU) 
Изобретатели: Абанин Иван Евгеньевич (RU)
Амеличев Владимир Викторович (RU)
Аравин Владислав Викторович (RU)
Касаткин Сергей Иванович (RU)
Резнев Алексей Алексеевич (RU)
Решетников Иван Александрович (RU)
Сауров Александр Николаевич (RU) 
Патентообладатели: Федеральное государственное учреждение "Научно-производственный комплекс "Технологический центр" Московского государственного института электронной техники" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к технологии микро- и наноэлектроники и может быть использовано в производстве гибридных микросистем анализа слабого магнитного поля. Сущность изобретения: способ изготовления микросистемы контроля трех компонент вектора магнитной индукции включает формирование на поверхности кремниевой пластины первого диэлектрического слоя из нитрида кремния с подслоем оксида кремния, формирование металлизированной разводки и контактных площадок, нанесение второго диэлектрического слоя из диоксида кремния, формирование окон во втором диэлектрическом слое до слоя металла, формирование окна в первом диэлектрическом слое в центральной области пластины до кремния, сухое анизотропное травление кремния в указанном окне на глубину не менее половины толщины кремниевой пластины, размещение на кремниевой пластине путем приклеивания двух кристаллов магниторезистивных преобразователей с осями чувствительности по Х- и Y-направлениям, обратной стороной и торцами вплотную друг к другу, размещение кристалла магниторезистивного преобразователя с чувствительностью по Z-направлению торцом в окно с вытравленным кремнием в центральной области, с примыканием его обратной стороны вплотную к торцам кристаллов, размещение кристалла микросхемы усиления сигнала, разварку контактных площадок, заливку компаундом. Изобретение обеспечивает повышение точности контроля направления вектора магнитной индукции, повышение разрешающей способности и чувствительности, надежности, снижение массогабаритных параметров. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"