Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОЩНЫХ СВЧ ТРАНЗИСТОРНЫХ СТРУКТУР СО СТАБИЛИЗИРУЮЩИМИ ЭМИТТЕРНЫМИ РЕЗИСТОРАМИ

Номер публикации патента: 2024994

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 5016075 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/66    
Аналоги изобретения: 1. Кремниевые планарные транзисторы. Под ред. Федотова Я.А. - М: Советское радио, 1973, с.268. 

Имя заявителя: Научно-исследовательский институт электронной техники 
Изобретатели: Асессоров В.В.
Велигура Г.А.
Гаганов В.В. 
Патентообладатели: Научно-исследовательский институт электронной техники 

Реферат


Использование: микроэлектроника, технология изготовления мощных СВЧ-транзисторных структур со стабилизирующими эмиттерными резисторами. Сущность изобретения: при изготовлении СВЧ-транзисторных структур со стабилизирующими эмиттерными резисторами в кремниевой подложке последовательно формируют области базы и эмиттера, область эмиттера осуществляют в две стадии, при этом после проведения первой стадии наносят резистивный слой системы ванадий-кремний с содержанием ванадия 15 - 25 атомных процентов до толщины 0,05 - 0,1 мкм, а одновременно с проведением второй стадии создают защитное покрытие резистивного слоя, в потоке газообразного кислорода толщиной 0,02 - 0,022 мкм, формируют топологический рисунок резисторов, удаляют защитное покрытие, наносят многослойную металлизацию, создают контакты к областям базы, эмиттера и эмиттерным резисторам.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"