Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРЕМНИЕВЫХ БИПОЛЯРНЫХ СВЧ - ТРАНЗИСТОРОВ

Номер публикации патента: 1649965

Вид документа: A1 
Страна публикации: SU 
Рег. номер заявки: 4750349 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/331    
Аналоги изобретения: Заявка Японии N 62-101035, кл. H 01 L 21/306, 1987. Заявка Японии N 57-36742, кл. H 01 L 21/88, 1982. 

Имя заявителя: Особое конструкторское бюро при Новгородском заводе им.Ленинского комсомола 
Изобретатели: Романов Ю.П. 

Реферат


Изобретение относится к полупроводниковой электронике, в частности к технологии изготовления полупроводниковых приборов. Цель - повышение выхода годных и надежности транзисторов за счет сглаживания рельефа поверхности структуры перед металлизацией. Для этого при изготовлении транзисторов на поверхности подложки формируют диэлектрическую пленку, вскрывают в ней окна под области базы, легируют их базовой примесью. Затем осаждают кремнийсодержащую диэлектрическую пленку, вскрывают окно к области эмиттера и проводят окисление до получения в окне пленки оксида кремния толщиной 0,08 - 0,12 мкм. Далее вскрывают контактные окна и формируют металлизацию, причем контактное окно к эмиттеру вскрывают путем локального травления термической пленки оксида кремния на поверхности эмиттерной области. Способ обеспечивает создание структурно-совершенной пленки диэлектрика над пассивными участками подножки и сглаженные края контактных окон к активным областям транзистора, что предотвращает возникновение проколов в области изолирующего диэлектриками и обрывов шин металлизации.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"